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  • 151 9032 3888 遊先生

諾普得

半導體與電子

202103111852.jpg生産集成電路芯片需要高度專業化的設備,可在多重苛刻環境下工作,如:        

  •   真空環境下的等離子

  •   高溫

  •   與高度研磨液接觸

  •   暴露于多種高腐蝕性化學品

與石英和陶瓷等傳統材料相比,三菱化學高新材料(Mitsubishi Chemical Advanced Materials EPP)已研發出多種材料,既滿足了晶圓低污染加工的嚴格要求,又是低成本的解決方案。我們的材料被設計用于整個晶圓加工制程。

您的優勢

  •   準确複制任何地區可用的材料

  •   廣泛的材料選擇、工程支持和測試能力

  •  機加工能力,支持仿真系統NPI應用發展

  •  材料組合廣泛,專設計用于濕制程工具

  •  CMP環材料的制造商,包括Techtron® PPS(CMP應用)

  •  用于刻蝕、CVD和離子植入等幹式制程工具的材料,可降低成本和提高性能

産品與應用

産品

應用

  • Techtron® PPS

  • Semitron® CMP XL20

  • Ketron® 1000 PEEK

  • Ertalyte® PET-P

  • Duratron® PAI

  • CMP環

  • 刻蝕和CVD反應腔

  • 晶圓傳送

  • 濕制程構造

  • 濕制程部件

    HP化學品和水儲存容器内襯


此頁内容摘自https://www.mcam.com/zh/行業應用/半導體與電子/

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