eusfggaypr
生産集成電路芯片需要高度專業化的設備,可在多重苛刻環境下工作,如:
真空環境下的等離子
高溫
與高度研磨液接觸
暴露于多種高腐蝕性化學品
與石英和陶瓷等傳統材料相比,三菱化學高新材料(Mitsubishi Chemical Advanced Materials EPP)已研發出多種材料,既滿足了晶圓低污染加工的嚴格要求,又是低成本的解決方案。我們的材料被設計用于整個晶圓加工制程。
準确複制任何地區可用的材料
廣泛的材料選擇、工程支持和測試能力
機加工能力,支持仿真系統NPI應用發展
材料組合廣泛,專設計用于濕制程工具
CMP環材料的制造商,包括Techtron® PPS(CMP應用)
用于刻蝕、CVD和離子植入等幹式制程工具的材料,可降低成本和提高性能
|
産品 |
應用 |
|
|
此頁内容摘自https://www.mcam.com/zh/行業應用/半導體與電子/